電沉積法制備三氧化鎢薄膜

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電沉積法在制備三氧化鎢薄膜時的基本過程是：首先用H2O2以一定比例溶解W粉，然后祛除過量的H2O2，得到電解質溶液并讓其自然沉積，再以Pt作為工作電極，以另一種物質為對電極，通入電流電解沉積，Pt電極上即可得三氧化鎢薄膜。

Habazaki用此方法在Ti基體表面制備了三氧化鎢薄膜。基本過程為：先向10mL30％的H2O2中加入2g鎢粉，待放熱反應結束后，再加入100mL蒸餾水和30m L丙醇，得到制備三氧化鎢薄膜所需電解質溶液。用飽和甘汞電極為對電極，在室溫下以450mV電壓電解 1小時，產物用蒸餾水和乙醇反復清洗，并經過適當的熱處理后，即可在基片上得到三氧化鎢薄膜。賈小東等用脈沖電沉積法，以H2O2和W 粉為原料，用鉑(Pt)為陽極，以沉積有Sn O2透明導電薄膜的玻璃片(基片)為陰極，采用方波脈沖電源，通斷比為 1：1(ton=toff=4ms)，電流密度為 0.5mAcm－2，電沉積為 60 min，樣品在l00～420℃下進行熱處理，得到晶態和非晶態三氧化鎢電致變色薄膜。

 電沉積法相對與其它方法，其設備較簡單，可控性強，鍍膜比較均勻而且也可以進行制備復合薄膜。但受到鍍膜面積的影響，所制得三氧化鎢薄膜面積較小。

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