離子注入是近三十年來國際上蓬勃發展和廣泛應用的一種材料表面改性高新技術，實現了材料的表面性能的優化或可以獲得某些新的優異性能。由于此項高新技術獨特而突出的特點，在現代集成電路制造中是一項非常重要的技術。它利用離子注入機實現半導體的摻雜，改變半導體的導電性與晶體管結構。
由于在離子注入時，離子源轉換為電漿離子會產生2000℃以上的工作溫度，離子束噴發的時候也會產生很大的離子動能，一般的金屬很快就會燒熔。因此，需要質量和密度都相對較大的惰性金屬，以維持離子束的噴發方向和增加組件耐用度。鎢材料的高溫化學性能穩定，熱變性小和使用壽命長等優點，成為了半導體行業離子注入機離子源件及耗材的首選，發射陰極的屏蔽筒、發射面板、中心固定桿、起弧室內絲極板等這些都統稱為離子注入鎢零件。
離子注入工藝
離子注入鎢零件圖片
